В технических справочниках по применению гальваностегии приводится величина h/jt, характеризующая скорость роста толщины h покрытия

image_printРаспечатать ответ

Вопрос школьника

В технических справочниках по применению гальваностегии приводится величина h/jt, характеризующая скорость роста толщины h покрытия при единичной плотности тока у. Доказать, что эта величина равна отношению электрохимического эквивалента k данного металла к его плотности ρ

Ответ от учителя

Гальваностегия — это процесс электрохимического осаждения металла на поверхности электродов. При этом на поверхности электрода происходит реакция окисления металла, а на катоде — восстановление металла из раствора. Скорость роста толщины покрытия h при единичной плотности тока у зависит от многих факторов, включая концентрацию ионов металла в растворе, температуру, pH и т.д. Однако, существует простая зависимость между скоростью роста толщины покрытия и электрохимическим эквивалентом металла.

Электрохимический эквивалент k — это количество металла, которое осаждается на катоде при прохождении 1 кулона электрического заряда. Таким образом, если на катоде проходит ток I, то количество металла, которое осаждается на нем за время t, можно выразить как:

m = k * I * t

Плотность ρ металла определяется как отношение его массы к объему:

ρ = m / V

где V — объем металла.

Тогда скорость роста толщины покрытия h можно выразить как:

h = m / S

где S — площадь поверхности электрода.

Подставляя выражение для m, получаем:

h = k * I * t / (S * V)

Таким образом, скорость роста толщины покрытия h при единичной плотности тока у равна:

h/jt = k * I / (S * V)

Заметим, что I / S — это плотность тока i, а V / S — это толщина покрытия d. Тогда:

h/jt = k * i / ρ

где ρ — плотность металла.

Таким образом, мы доказали, что величина h/jt равна отношению электрохимического эквивалента k данного металла к его плотности ρ.

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *